レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト用組成物、およびパターン製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：宮崎昭夫 , 石橋政幸 , 岩田慎一 , 緒方雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-056078
公開番号（公開出願番号）：特開2006-241233
出願日： 2005年03月01日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：

【課題】DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト用組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、現像時のディフェクトや、ラインエッジラフネスが小さいレジスト用重合体、その製造方法、レジスト用重合体を含むレジスト用組成物、および、このレジスト用組成物を用いたパターン製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも酸脱離性基を有する構成単位(A)を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、重合開始剤と、置換基および/またはヘテロ原子を有していてもよいn価の炭化水素基を表すJに、酸分解性結合および重合停止能あるいは連鎖移動能を有する官能基である[X-SH]がn個結合した特定の化合物とを使用して、構成単位(A)を構成する単量体を重合する工程を含むレジスト用重合体の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも酸脱離性基を有する構成単位(A)を含有するレジスト用重合体の製造方法であって、重合開始剤と下記式(1)

IPC (3件)：

C08F 2/38 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (3件)：

C08F2/38 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (19件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J011AA05 , 4J011NA25 , 4J011NB04 , 4J011NC01 , 4J011NC04

引用特許：

出願人引用 (5件)

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-130131 出願人：富士通株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-012406 出願人：住友化学工業株式会社
ハロゲン化光学ポリマー組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-517103 出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー

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