特許

J-GLOBAL ID：200903035585426583

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  藤島 浩晃 ,  宮 芳子
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-012406
公開番号（公開出願番号）：特開平10-274852
出願日： 1998年01月26日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】【課題】 樹脂成分と酸発生剤を含有する化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に基板への接着性に優れるものを提供する。【解決手段】 アルキルで置換されてもよいブチロラクトン残基を有する樹脂、および酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。このブチロラクトン残基は、例えばそのα-位で、エステル結合やエーテル結合を介して樹脂基体に結合することができる。また、この樹脂は通常さらに、酸の作用により解裂する基を有する。

請求項（抜粋）：

アルキルで置換されてもよいブチロラクトン残基を有する樹脂、および酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 分解性化合物および分解性樹脂並びにこれらを用いた感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-327775   出願人：三菱電機株式会社
• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050264   出願人：富士通株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-312722   出願人：富士通株式会社