特許
J-GLOBAL ID:200903086849429083
ポリフェニレンコポリマー
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (7件):
中村 稔
, 大塚 文昭
, 熊倉 禎男
, 宍戸 嘉一
, 小川 信夫
, 西島 孝喜
, 箱田 篤
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-012960
公開番号(公開出願番号):特開2008-144184
出願日: 2008年01月23日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
【課題】優れた溶解性及び加工性を維持しつつ、より低いK及びTgを有するポリフェニレン及びその製造方法を提供すること。【解決手段】下記一般式で表される構造を含んでなるコポリマー:(上式中-Ar-は、アリーレン又はヘテロアリーレン繰返し単位の少なくとも1種である)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式で表されるポリマー:
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (10件):
4J032CA03
, 4J032CA04
, 4J032CA53
, 4J032CB04
, 4J032CB08
, 4J032CC01
, 4J032CC04
, 4J032CD08
, 4J032CE03
, 4J032CG01
引用特許:
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