特許
J-GLOBAL ID:200903086849429083

ポリフェニレンコポリマー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  小川 信夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-012960
公開番号(公開出願番号):特開2008-144184
出願日: 2008年01月23日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
【課題】優れた溶解性及び加工性を維持しつつ、より低いK及びTgを有するポリフェニレン及びその製造方法を提供すること。【解決手段】下記一般式で表される構造を含んでなるコポリマー:(上式中-Ar-は、アリーレン又はヘテロアリーレン繰返し単位の少なくとも1種である)【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式で表されるポリマー:
IPC (1件):
C08G 61/10
FI (1件):
C08G61/10
Fターム (10件):
4J032CA03 ,  4J032CA04 ,  4J032CA53 ,  4J032CB04 ,  4J032CB08 ,  4J032CC01 ,  4J032CC04 ,  4J032CD08 ,  4J032CE03 ,  4J032CG01
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 米国特許第5,227,457号
審査官引用 (2件)

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