特許

J-GLOBAL ID：200903086899860524

検査装置及びマスク製造方法

発明者： 井上 広 ,  東條 徹 ,  野村 武彦 ,  今井 信一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-149336
公開番号（公開出願番号）：特開2004-354088
出願日： 2003年05月27日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】透過像と反射像の間で光学像の歪や位置・倍率のずれが発生するのを防止することで高精度の検査を行うことが可能な検査装置を提供すること。【解決手段】マスクMを透過して透過像を形成する透過光学系110と、マスクMに反射して反射像を形成する反射光学系120と、透過像及び反射像を拡大して拡大投影像を形成する結像光学系130と、結像光学系130で得られた拡大投影像を電気的な画像信号に変換するセンサ部140とを備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被検査物のパターン面を検査する検査装置において、 前記被検査物のパターン面を透過して透過像を形成する第1の照明手段と、 前記被検査物のパターン面に反射して反射像を形成する第2の照明手段と、 前記透過像及び前記反射像を拡大した光学像を形成する結像光学系と、 この結像光学系で得られた光学像を電気的な画像信号に変換するセンサとを備えていることを特徴とする検査装置。

IPC (3件)：

G01N21/956 ,  G03F1/08 ,  H01L21/66

FI (3件)：

G01N21/956 A ,  G03F1/08 S ,  H01L21/66 J

Fターム (19件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051EA11 ,  2G051EA23 ,  2H095BD04 ,  2H095BD11 ,  2H095BD17 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08