特許
J-GLOBAL ID：200903086978989460

表示装置

発明者：
松舘 法治

松舘 法治 について


出願人/特許権者：
株式会社 日立ディスプレイズ

株式会社 日立ディスプレイズ について


代理人 (1件)： 小野寺 洋二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-384583
公開番号（公開出願番号）：特開2005-148335
出願日： 2003年11月14日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 マスクの開孔形状の変形による有機EL発光素子の位置精度の低下を無くし、高精細、高品質の画像表示を可能とした表示装置を実現する。【解決手段】 マスク部MSSをテンションを印加してフレームFLMに固定する工程で生じる応力を吸収し、開孔パターンの変形によるパターン精度劣化を抑制する引っ張り応力吸収孔を有するダミー画素用開孔パターンNARを画素用開孔パターンDARの外側に設ける。このマスクを用いて、表示に寄与する多数の画素を二次元配列した表示領域と、この表示領域の外周に形成されて表示に寄与しない複数のダミー画素からなる非表示領域とを形成し、画素とダミー画素には、共に同一の発光層が蒸着される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表示に寄与する多数の画素を二次元配列した表示領域と、この表示領域の外周に形成されて表示に寄与しない複数のダミー画素からなる非表示領域とを有し、 前記画素と前記ダミー画素は、共に同一の発光層を有することを特徴とする表示装置。
IPC (2件)：
G09F9/30 ,  H05B33/14
FI (4件)：
G09F9/30 390C ,  G09F9/30 338 ,  G09F9/30 365Z ,  H05B33/14 A
Fターム (26件)：
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  5C094AA03 ,  5C094AA05 ,  5C094AA08 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094AA55 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EB02 ,  5C094ED15 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
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