特許
J-GLOBAL ID：200903096295482616

有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器

発明者：
関 俊一

関 俊一 について

, 
森井 克行

森井 克行 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356190
公開番号（公開出願番号）：特開2002-222695
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：
【要約】【課題】インクジェット方式で基板上に有機EL材料を吐出、塗布し有機EL層を形成する有機EL装置の製造において、有効光学領域画素間および各画素内で有機EL薄膜の膜厚を均一にする。【解決手段】表示画素領域の周囲に、表示画素42と同じ形状、同ピッチのダミーバンク43群を設け、表示画素領域の周辺にも有機EL材料インク組成物41を塗布し、有機EL薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物を複数の電極上に塗布することにより各電極上に、有機エレクトロルミネッセンス層をそれぞれ形成する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、前記複数の電極が形成される有効光学領域が設けられ、有機エレクトロルミネッセンス材料を含む組成物の塗布領域を前記有効光学領域より大きくすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
IPC (7件)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (7件)：
H05B 33/10 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z
Fターム (39件)：
3K007AB02 ,  3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB07 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  5C094AA03 ,  5C094AA07 ,  5C094AA08 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094AA55 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA01 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435EE37 ,  5G435HH01 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
審査官引用 (10件)
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