特許
J-GLOBAL ID：200903086994409007
イオンプレーティング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-044573
公開番号（公開出願番号）：特開平8-246138
出願日： 1995年03月03日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：
【要約】【目的】 ルツボ部分における放電を防止し、精密な成膜を安定的に行うことができるイオンプレーティング装置を実現する。【構成】 チャンバー1内で形成されたプラズマ中の電子がルツボ2の方向に向かうが、この電子は、アース電極23に衝突して放電し、ルツボ2の表面がプラズマ中の電子によってチャージアップすることは防止される。また、フィラメント4から発生した電子ビームが材料3に衝突し、材料3から反射電子や2次電子が発生するが、これら反射電子や2次電子はルツボ2に接近して設けられたアース電極23に向かうことになり、ルツボ2の表面がチャージアップすることはない。
請求項（抜粋）：
チャンバーと、チャンバー内に設けられその上に蒸発材料が載せられるルツボと、ルツボを回転させる手段と、蒸発材料に向け電子ビームを照射するための電子銃と、蒸発しイオン化された材料が付着される基板と、チャンバーの側部に設けられ、チャンバー内の蒸発材料をイオン化するための電子ビームを発生するプラズマ電子銃と、チャンバー内のルツボの周囲に配置されたアース電極とを備えたイオンプレーティング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/32 Z
, H05H 1/46 A
