特許
J-GLOBAL ID：200903087121973697

露光装置および液晶ディスプレイ

発明者：
三保谷 拓史

三保谷 拓史 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-013009
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214597
出願日： 1999年01月21日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：
【要約】【課題】 大面積の基板を高スループットかつ高解像度で露光でき、しかも簡単な構造で安価に構成できる露光装置を提供する。【解決手段】 この露光装置100は、基板1が載置されたステージ8と、それぞれ半導体レーザチップを有する複数のレーザモジュール601が列をなして搭載されたアレイユニット10とを互いに平行に対向させた状態で、上記複数のレーザモジュール601の半導体レーザチップが出射したレーザ光をそれぞれ基板面に対して垂直に照射しながら基板1上を走査する。各レーザモジュール601はアレイユニット10上で列方向に移動可能に設けられている。基板1を露光すべきパターンを表すデータに基づいて、アレイユニット10上で各レーザモジュール601の上記列方向の位置を設定する位置決め手段4を備える。
請求項（抜粋）：
露光すべき基板が載置されたステージと、それぞれ半導体レーザチップを有する複数のレーザモジュールが列をなして搭載されたアレイユニットとを互いに平行に対向させた状態で、上記複数のレーザモジュールの半導体レーザチップが出射したレーザ光をそれぞれ基板面に対して垂直に照射しながら上記ステージとアレイユニットとを相対的に移動させて上記基板上を走査する露光装置において、上記各レーザモジュールは上記アレイユニット上で列方向に移動可能に設けられ、上記基板を露光すべきパターンを表すデータに基づいて、上記アレイユニット上で上記各レーザモジュールの上記列方向の位置を設定する位置決め手段を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/22 ,  G02F 1/13 101 ,  H01S 3/00
FI (3件)：
G03F 7/22 Z ,  G02F 1/13 101 ,  H01S 3/00 B
Fターム (19件)：
2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA24 ,  2H088HA28 ,  2H088MA20 ,  2H097AA03 ,  2H097BA03 ,  2H097CA03 ,  2H097CA04 ,  2H097CA08 ,  2H097CA17 ,  2H097LA12 ,  5F072JJ02 ,  5F072JJ05 ,  5F072JJ11 ,  5F072JJ12 ,  5F072KK05 ,  5F072RR03 ,  5F072YY09
引用特許：
審査官引用 (4件)
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