特許
J-GLOBAL ID：200903087208715406
光転位により生成する高分子ナノ粒子およびその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-059041
公開番号（公開出願番号）：特開2009-215389
出願日： 2008年03月10日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：
【課題】アリロキシ基含有共重合体の光転位反応を利用して、電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料等の構成材料としての用途が見込まれる高分子の集合体よりなるナノ粒子を提供すること、及び光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる光転位による新しいナノ粒子の製造技術の提供。【解決手段】アリロキシ基含有のポリマーとポリスチレン誘導体からなる共重合体に高圧水銀ランプを用いて光照射することにより、アリロキシ基が光転位して該共重合体中に水酸基を形成し、その水酸基が水素結合により凝集することによって数十ナノメートルのナノ粒子が得られることを見出し、本発明を完成した。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示されるアリロキシ基含有ポリマーと下記一般式(2)で示されるポリスチレン誘導体からなる共重合体に光照射することにより形成される高分子ナノ粒子。
一般式(1)
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4J100AB02P
, 4J100AB15Q
, 4J100BA03H
, 4J100CA31
, 4J100EA05
, 4J100HA55
, 4J100HE44
, 4J100HG01
, 4J100JA01
, 4J100JA07
, 4J100JA32
, 4J100JA52
