特許

J-GLOBAL ID：200903087241887670

荷電ビーム描画方法

発明者： 米田 郁男
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-185193
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005634
出願日： 2005年06月24日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】電子ビーム描画時のビーム寸法精度を向上させ、ひいてはレジストパターン寸法精度を向上させ得る荷電ビーム描画方法を提供する。【解決手段】描画時に行うビーム寸法校正を、描画装置によって決まる描画フィールド内の各点で行い(ステップS1)、描画フィールド内の各点でのビーム寸法校正関数を求め(ステップS2)、これを用いて試料に描画する(ステップS4)。この際、描画フィールド内の各点での歪によるビーム寸法変換差に加えて、描画後のレジスト寸法への変換差も見込んで寸法校正関数を求め(ステップS3)、これを用いて描画を行う。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

試料上に塗布したレジスト膜に荷電ビームを照射して所望パターンを描画する荷電ビーム描画方法であって、 少なくとも、荷電ビーム寸法の入力値に対して、実際に照射された荷電ビームの寸法を描画装置の偏向領域内の各点で予め測定する第1の工程と、 前記第1の工程で得られたビーム寸法測定値に対して、少なくとも前記レジスト膜の種類、荷電ビーム照射量およびレジストプロセスで決定されるレジストパターン寸法を求める第2の工程と、 前記第1の工程で得られた偏向領域内の各点でのビーム寸法測定値から描画装置固有のビーム寸法歪量を求める第3の工程と、 前記第2の工程で得られたレジストパターン寸法値からビーム・レジストパターン寸法変換差を求める第4の工程と、 前記第3の工程で得られたビーム寸法歪量と前記第4の工程で得られたビーム・パターン寸法変換差からそれぞれの補正量を求め、これらを掛け合わせて寸法補正量とする第5の工程と、 前記第5の工程で得られた寸法補正量に基づいてビーム寸法入力値を補正し、当該ビーム寸法入力値にしたがって試料上への描画を行う第6の工程 とを具備することを特徴とする荷電ビーム描画方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/305 ,  G01B 15/00

FI (5件)：

H01L21/30 541E ,  H01L21/30 541N ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/305 B ,  G01B15/00 B

Fターム (20件)：

2F067AA00 ,  2F067AA23 ,  2F067AA26 ,  2F067BB04 ,  2F067CC15 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK08 ,  2F067LL15 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR44 ,  2H097BB10 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB10 ,  5F056BA05 ,  5F056CB07 ,  5F056CB11 ,  5F056CC02 ,  5F056CC11

引用特許：

出願人引用 (1件)

• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-242766   出願人：三菱電機株式会社