特許
J-GLOBAL ID：200903087247282088

乾燥処理装置及び乾燥処理方法

発明者：
本田 儀幸

本田 儀幸 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-141110
公開番号（公開出願番号）：特開平10-055997
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】 被処理体と支持部の接触面積を少なくし、かつ被処理体を安定な状態で保持して、歩留まりの向上、スループットの向上を図ること。【解決手段】 回転手段により回転される回転体と、この回転体の上方位置に傾動可能に配設されるクレードル10a,10bを具備する乾燥処理装置において、クレードル10a,10bを、複数のウエハWの下部側を保持する複数の保持溝を列設する下部支持体15と、ウエハWの両側部側を保持する複数の保持溝を列設する保持部18を有する支持枠14とで主要部を構成すると共に、下部支持体15を支持枠14に対して昇降可能に形成する。
請求項（抜粋）：
回転手段により回転される回転体と、この回転体の上方位置に配設される傾動可能な被処理体用支持手段とを具備する乾燥処理装置において、上記支持手段を、複数の被処理体の下部側を保持する複数の保持溝を列設する下部支持体と、上記被処理体の両側部側を保持する複数の保持溝を列設する保持部を有する支持枠とで主要部を構成すると共に、上記下部支持体を上記支持枠に対して昇降可能に形成してなる、ことを特徴とする乾燥処理装置。
引用特許：
審査官引用 (3件)

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