特許

J-GLOBAL ID：200903087262867017

荷電粒子ビーム制御装置、及びそれを用いた荷電粒子ビーム光学装置、荷電粒子ビーム欠陥検査装置、並びに荷電粒子ビーム制御方法

発明者： 狩俣 努 ,  任 偉明
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所 ,  株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-210862
公開番号（公開出願番号）：特開2003-028999
出願日： 2001年07月11日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：

【要約】【課題】 レンズ間の狭い空間に挿入することができ、荷電粒子ビームの軌道を修正したり、収差を補正することのできる荷電粒子ビーム制御装置、及びそれを用いた荷電粒子ビーム光学装置、荷電粒子ビーム欠陥検査装置、並びに荷電粒子ビーム制御方法を提供する。【解決手段】 荷電粒子ビームの軌道の周りに配設した電極11a〜11d、電極12a〜12dからビーム制御部11,12を形成した。ここで、円筒状の絶縁体13の内周面131にAuを被覆して電極11a〜11d、電極12a〜12dを形成し、ビーム制御部11,12は、この絶縁体13に荷電粒子ビームの軌道に沿って設けられるようにして荷電粒子ビーム制御装置Aを構成した。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームが通過する軌道上に電場を生成するビーム制御部を有し、該ビーム制御部は、前記軌道の周りに電圧が印加される電極を複数有している荷電粒子ビーム制御装置であって、前記電極は、前記軌道に沿って延在する絶縁体の表面の一部に導電性物質が被覆されたものが用いられるとともに、前記ビーム制御部は、前記軌道に沿って前記絶縁体に複数設けられていることを特徴とする荷電粒子ビーム制御装置。

IPC (6件)：

G21K 5/04 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/12 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/29

FI (6件)：

G21K 5/04 E ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/12 ,  H01J 37/147 B ,  H01J 37/153 Z ,  H01J 37/29

Fターム (21件)：

2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001DA09 ,  2G001FA10 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001GA10 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001KA03 ,  2G001PA11 ,  2G001RA08 ,  2G001SA01 ,  2G001SA04 ,  5C033CC02 ,  5C033FF01 ,  5C033FF08 ,  5C033JJ01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-236443
  
• 荷電粒子ビーム制御素子および荷電粒子ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-296842   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭64-071040