特許
J-GLOBAL ID：200903087281259001

全反射蛍光X線分析装置

発明者：
宇高 忠

宇高 忠 について


出願人/特許権者：
理学電機工業株式会社

理学電機工業株式会社 について


代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-051414
公開番号（公開出願番号）：特開平10-253554
出願日： 1997年03月06日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】同一試料について広範囲の複数の元素の同時分析が容易にできる全反射蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】複数の照射系1,2による1次X線B2の試料50への入射角φ1,φ2が互いに相違しているので、同一試料50に複数の相異なる1次X線B2を同時に入射させることにより、広範囲の複数の元素を同時に蛍光X線分析できる。
請求項（抜粋）：
試料表面に1次X線を照射して試料表面で全反射を生じさせる照射系と、前記試料からの蛍光X線を検出するX線検出器とを備えた全反射蛍光X線分析装置において、前記照射系が複数設けられ、各照射系による1次X線の試料への入射角が互いに相違していることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。
引用特許：
審査官引用 (3件)

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