特許

J-GLOBAL ID：200903087287298211

アルカリ可溶性シロキサン重合体

発明者： 五十嵐 美和 ,  渡部 慶二 ,  矢野 映 ,  並木 崇久 ,  野崎 耕司 ,  倉光 庸子
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-062750
公開番号（公開出願番号）：特開平9-249749
出願日： 1996年03月19日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 合成や分子量制御が容易であり、かつ、レジスト材料として好適な、高解像性で、高エッチング耐性を有する、アルカリ可溶性のSi含有ポリマを提供する。【解決手段】 下記一般式で表されるアルカリ可溶性シロキサン重合体。【化1】〔上式中、Rはシロキサンポリマ残基を表し、R1 およびR2 はそれぞれ独立に-Hまたは一価の有機基を表し、R3 およびR4 はそれぞれ独立に-H,-Clまたは一価の有機基を表し、R5 はそれぞれ独立に-Hまたは一価の有機基を表し(ただし、基R5 の50%以上が-Hであるものとする)、mは1〜3の整数であり、nは1または2であり、aおよびbは1以上の整数である〕

請求項（抜粋）：

下記一般式(A)で表されるアルカリ可溶性シロキサン重合体。【化1】〔上式中、Rはシロキサンポリマ残基を表し、R1 およびR2 はそれぞれ独立に-Hまたは一価の有機基を表し、R3 およびR4 はそれぞれ独立に-H,-Clまたは一価の有機基を表し、R5 はそれぞれ独立に-Hまたは一価の有機基を表し(ただし、基R5 の50%以上が-Hであるものとする)、mは1〜3の整数であり、nは1または2であり、aおよびbは1以上の整数である〕

IPC (2件)：

C08G 77/52 NUM ,  G03F 7/075 511

FI (2件)：

C08G 77/52 NUM ,  G03F 7/075 511

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-225524
  
• フェノールにより改質されたシリコーン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-110846   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
• 特開平1-292036