特許
J-GLOBAL ID:200903087289834447

偏光板の製造方法及び液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池内 寛幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-115659
公開番号(公開出願番号):特開2001-296428
出願日: 2000年04月17日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】【課題】高い光透過率と高い偏光率を両立させた偏光板の製造方法及び液晶表示装置を提供する。【解決手段】ポリビニルアルコール(PVA)フィルムを、2色性の性質をもつヨウ素または染料で染色し、架橋剤により架橋し、これらのいずれかの工程にてロールを用いて延伸して偏光板を製造する方法であって、染色浴で前記フィルムを染色後、架橋剤を含む浴で架橋させるに際し、PVA成膜原反から染色処理後までの延伸倍率を1.01〜4.5倍の範囲とし、その後の架橋剤を含む架橋処理浴以降の少なくとも1浴中にヨウ化物を4〜20重量%含ませて浸漬処理するとともに、架橋処理浴以降における延伸倍率を3倍以下とし、かつPVA成膜原反から最終製品までのトータル延伸倍率を4.5〜8倍の範囲とする。
請求項(抜粋):
ポリビニルアルコール(PVA)フィルムを、2色性の性質をもつヨウ素または染料で染色し、架橋剤により架橋し、これらのいずれかの工程にてロールを用いて延伸して偏光板を製造する方法であって、2色性の性質をもつヨウ素または染料を含む染色浴で前記フィルムを染色後、架橋剤を含む浴で架橋させるに際し、PVA成膜原反から染色処理後までの延伸倍率が、1.01〜4.5倍の範囲(ただし、染色浴中に架橋剤が入る場合も染色に含む)であり、その後の架橋剤を含む架橋処理浴以降の少なくとも1浴中にヨウ化物を4〜20重量%含ませて浸漬処理するとともに、架橋処理浴以降における延伸倍率を3倍以下とし、かつ、PVA成膜原反から最終製品までのトータル延伸倍率を4.5〜8倍の範囲とすることを特徴とする偏光板の製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510
FI (2件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510
Fターム (19件):
2H049BA02 ,  2H049BA27 ,  2H049BB43 ,  2H049BB62 ,  2H049BB63 ,  2H049BC01 ,  2H049BC03 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA15Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC05 ,  2H091FC07 ,  2H091GA16 ,  2H091HA07 ,  2H091HA10 ,  2H091LA30
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 偏光フィルムの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-206153   出願人:住友化学工業株式会社
  • 特開平4-204907
  • 偏光フィルムの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-312695   出願人:日本合成化学工業株式会社
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