特許
J-GLOBAL ID:200903087304619930

リアクトル装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-067835
公開番号(公開出願番号):特開2009-224584
出願日: 2008年03月17日
公開日(公表日): 2009年10月01日
要約:
【課題】原料選択の自由度が高くバリの問題も回避でき、かつ渦電流の発生を抑制できるリアクトル装置とする。【解決手段】圧縮成形時に形成された一対のプレス表面(a-b平面)を有し、プレス表面のエッジ部は加圧処理により塑性加工されたリアクトルコアを、コイルに2通電された際に生じる磁束がプレス表面を透過しない向きに配置した。 プレス表面に塑性加工によって絶縁性が低いエッジ部が存在していても、渦電流が生じるのを抑制することができる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
圧粉磁心よりなるリアクトルコアと、該リアクトルコアの外周に巻回されたコイルと、よりなるリアクトル装置であって、 該リアクトルコアは、圧縮成形時に形成された一対のプレス表面を有し、該プレス表面のエッジ部は加圧処理により塑性加工され、該コイルに通電された際に生じる磁束が該プレス表面を透過しない向きに配置されていることを特徴とするリアクトル装置。
IPC (3件):
H01F 37/00 ,  H01F 27/255 ,  H01F 27/24
FI (5件):
H01F37/00 M ,  H01F37/00 A ,  H01F27/24 D ,  H01F27/24 H ,  H01F27/24 K
引用特許:
出願人引用 (3件)

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