特許

J-GLOBAL ID：200903087309215633

溶射膜形成方法及び複合材料の製造方法

発明者： 小林 慶朗 ,  市島 雅彦
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-363967
公開番号（公開出願番号）：特開2005-126768
出願日： 2003年10月24日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】 本発明は、セラミックス材料表面におけるマイクロクラックの発生を防止し、かつ、耐プラズマ性保護膜の剥離を防止することのできる保護膜の形成方法、及び複合材料の製造方法を提供する。【解決手段】 脆性材料の表面を化学的に粗面化する粗面化工程と、前記脆性材料表面に保護膜を溶射する溶射工程を備えた溶射膜形成方法において、前記粗面化工程において、粗面化した脆性材料の表面の算術平均粗さ(Ra)を、1〜10とすることを特徴とする溶射膜形成方法である。 脆性材料としてセラミックス焼結体を用いる場合には、硫酸あるいはリン酸のような酸性エッチング液を用いることができる。また、脆性材料として石英を用いる場合には、ケミカルフロスト処理剤を用いることができる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

脆性材料の表面を化学的に粗面化する粗面化工程と、前記脆性材料表面に保護膜を溶射する溶射工程を備えた溶射膜形成方法において、 前記粗面化工程において、粗面化した脆性材料の表面の算術平均粗さ(Ra)を、1〜10とすることを特徴とする溶射膜形成方法。

IPC (5件)：

C23C4/02 ,  C03C15/00 ,  C04B41/87 ,  C04B41/91 ,  H01L21/31

FI (5件)：

C23C4/02 ,  C03C15/00 B ,  C04B41/87 J ,  C04B41/91 B ,  H01L21/31 C

Fターム (24件)：

4G059AA08 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059BB16 ,  4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB07 ,  4K031AB09 ,  4K031BA02 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA01 ,  4K031DA03 ,  4K031DA04 ,  4K031DA05 ,  5F045AA08 ,  5F045BB15 ,  5F045EB03 ,  5F045EC05 ,  5F045EH08 ,  5F045EK08 ,  5F045EM09

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理容器内部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-351546   出願人：トーカロ株式会社, 東京エレクトロン株式会社