特許
J-GLOBAL ID:200903087330759961

ラクトン構造を有する多環式化合物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-109446
公開番号(公開出願番号):特開2002-308866
出願日: 2001年04月09日
公開日(公表日): 2002年10月23日
要約:
【要約】【課題】 エキシマレーザー光を光源とするフォトリソグラフィーに用いるレジスト材料のベース樹脂として好適な重合体を与える単量体を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)又は(2)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物(R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボニル基を示す。R3ないしR7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xはメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(1)又は(2)で表されるラクトン構造を有する多環式化合物【化1】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアルコキシカルボニル基を示す。R3ないしR7は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。Xはメチレン基、エチレン基、酸素原子又は硫黄原子を示す。)
IPC (5件):
C07D307/93 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/38
FI (5件):
C07D307/93 ,  G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/38 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (13件):
2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  4C037UA05 ,  4J100AL08P ,  4J100BC07P ,  4J100BC60P ,  4J100JA38
引用特許:
審査官引用 (1件)

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