特許
J-GLOBAL ID：200903087341876790
グレートーンマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-185927
公開番号（公開出願番号）：特開2006-010901
出願日： 2004年06月24日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】高精度なグレートーン部のパターンを有するグレートーンマスクの製造方法を提供する。【解決手段】グレートーンマスクの製造方法において、透明基板上に遮光膜を有するマスクブランクス上に形成された感光性材料層にパターン描画を施す描画工程を含み、該描画工程は、表示装置用基板の画素パターンに対応する繰り返しパターンに対し、略同一の描画条件にてエネルギービーム照射を行って描画するとともに、繰り返しパターン中のグレートーン部領域において最適な描画条件となるように描画位置を選定して描画する。グレートーン部は、グレートーンマスクを使用して露光を行うために用いる露光機の解像限界以下の遮光パターンが形成された領域である。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
表示装置用基板上に所望の画素パターンを形成するためのグレートーンマスクであって、遮光部、透光部及びグレートーン部からなるパターンを有するグレートーンマスクの製造方法において、
透明基板上に遮光膜を有するマスクブランクス上に形成された感光性材料層にパターン描画を施す描画工程を含み、
前記描画工程は、画素パターンに対応する繰り返しパターンに対し、略同一の描画条件にてエネルギービーム照射を行って描画するとともに、前記繰り返しパターン中のグレートーン部領域において最適な描画条件となるように、描画位置を選定して描画することを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20
, H01L 21/027
G03F1/08 G
, G03F7/20 501
, H01L21/30 502P
2H095BB32
, 2H095BC04
, 2H097LA12
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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