特許
J-GLOBAL ID：200903087378629946
パターン検査方法及びパターン検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-124044
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312461
出願日： 1997年05月14日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 大容量のメモリを用いることなく被測定パターンを検査する。【解決手段】 被測定パターンの設計時のCADデータあるいは被測定パターンの良品の画像データからマスタパターンの輪郭を示す直線を抽出する。この直線の始点座標、終点座標をマスタパターン情報として登録する(ステップ101、102)。被測定パターンをカメラで撮像して2値化する(ステップ103、104)。所定の大きさの分割領域ごとに、マスタパターン情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上に展開する(ステップ105)。このマスタパターンと被測定パターンを比較する(ステップ108、109)。
請求項（抜粋）：
基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、被測定パターンの設計時のCADデータあるいは被測定パターンの良品の画像データからマスタパターンの輪郭を示す直線を抽出して、抽出した直線の始点座標、終点座標をマスタパターン情報として登録し、所定の大きさの分割領域ごとに、前記マスタパターン情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上に展開し、このマスタパターンと被測定パターンを比較することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G06F 15/62 405 A
, G01N 21/88 J
審査官引用 (1件)
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画像データ比較装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-049264
出願人：富士通株式会社
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