反射屈折投影光学系、並びに投影露光方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-350511
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241099
出願日： 1994年04月28日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】【目的】従来の偏光ビームスプリッターより小型の光束分離光学系を使用し、且つ凹面反射鏡から像面までの光路を長く取る。【構成】物体面1からの光束が第1収斂群G1 を経て偏光ビームスプリッター6に入射し、偏光ビームスプリッター6で反射された光束が凹面反射鏡M2 で反射され、凹面反射鏡2の内部に物体面1上のパターンの像を形成する。そのパターンの像からの光束が、偏光ビームスプリッター6を透過した後、第3収斂群G3 を介して像面5上にそのパターンの像を形成する。

請求項（抜粋）：

第1面のパターンの像を第2面上に投影する光学系において、前記第1面のパターンの中間像を形成する第1結像光学系と、前記中間像の像を前記第2面上に形成する第2結像光学系と、を有し、前記第1結像光学系は、屈折レンズ成分を含み前記第1面のパターンからの光束を収斂する正屈折力の第1群と;該第1群の光軸に対して斜めに配置されたビームスプリッター面により前記第1群からの光束の一部を分離するプリズム型ビームスプリッターと;該プリズム型ビームスプリッターにより分離された光束を反射する凹面反射鏡を含み、前記プリズム型ビームスプリッター付近に前記パターンの中間像を形成する正の屈折力を持つ第2群と;より構成され、前記第2群により収斂された光束の一部は、前記プリズム型ビームスプリッターにより分離されて前記第2結像光学系へ導かれることを特徴とする反射屈折投影光学系。

IPC (4件)：

G02B 17/08 , G02B 27/18 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 17/08 A , G02B 27/18 Z , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 517

Fターム (10件)：

2H087KA21 , 2H087NA02 , 2H087TA01 , 2H087TA04 , 5F046BA05 , 5F046CB03 , 5F046CB10 , 5F046CB11 , 5F046CB15 , 5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (12件)

反射屈折投影光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-090837 出願人：株式会社ニコン
特開平3-282527
特開平2-066510

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