特許
J-GLOBAL ID：200903087404092212
照射装置および照射方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-189896
公開番号（公開出願番号）：特開2006-013227
出願日： 2004年06月28日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 煩雑な光学設計が不要であると共に、戻り光ノイズのない、安定した照射ビームを被照射面に照射することの可能な照射装置を提供する。【解決手段】 角度可変機構24を用いてレーザビーム50を被照射面1Sに対して斜めに入射させることで、被照射面1Sからの戻り光50Rがレーザ発振器10へ戻るのを回避する。走査方向に応じて照射角度θ(θA,θB)を調整するようにしたので、被照射面1Sに照射されるレーザビーム50の強度の非対称性が低減され、被照射面1Sの全体に亘って一様な照射をおこなうことができる。これにより、煩雑な光学設計を伴うことなく被照射面1Sへ安定したレーザビーム50を照射することができ、被照射面1Sのアニール処理が可能となる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
半導体レーザ光源と、
前記半導体レーザ光源からの射出ビームを集光し、被照射面へ向けて照射する光学系と、
前記被照射面へ向かう照射ビームを前記被照射面上において走査させる走査機構と
を備え、
前記光学系は、前記照射ビームと前記被照射面とのなす照射角度を変更可能な角度可変機構を有し、
前記走査機構による前記照射ビームの第1方向への走査と連動して、前記照射ビームの光軸を、前記被照射面と直交する方向から前記第1方向へ傾斜させるように構成されている
ことを特徴とする照射装置。
IPC (4件)：
H01L 21/268
, H01L 21/20
, H01S 5/00
, H01S 5/40
H01L21/268 J
, H01L21/268 F
, H01L21/20
, H01S5/00
, H01S5/40
5F052AA02
, 5F052BA07
, 5F052CA07
, 5F052DA02
, 5F052JA01
, 5F173MA10
, 5F173MF39
, 5F173MF40
