特許
J-GLOBAL ID：200903087433247594

Mg含有ITOスパッタリングターゲットおよびMg含有ITO蒸着材の製造方法

発明者：
寺岡 秀樹

寺岡 秀樹 について

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長崎 裕一

長崎 裕一 について

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黒澤 聡

黒澤 聡 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-270005
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098359
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：
【要約】【課題】 製造工程中にクラックが発生するのを抑制し、歩留まりの低下をまねくことなく、安定的にMg含有ITOスパッタリングターゲットおよび蒸着材を製造する方法を提供する。【解決手段】 酸化インジウム粉末及び酸化スズ粉末、又は酸化インジウムー酸化スズ粉末と、水酸化マグネシウム粉末とを混合・成形した後、焼結してなる焼結体を加工することを特徴とする、実質的にIn、Sn、MgおよびOからなるMg含有ITOスパッタリングターゲット/蒸着材の製造方法
請求項（抜粋）：
酸化インジウム粉末及び酸化スズ粉末、又は酸化インジウムー酸化スズ粉末と、水酸化マグネシウム粉末とを混合し、成形した後、焼結してなる焼結体を加工することを特徴とする、実質的にIn、Sn、MgおよびOからなるMg含有ITOスパッタリングターゲットの製造方法。
IPC (2件)：
C23C 14/34 ,  C04B 35/495
FI (2件)：
C23C 14/34 A ,  C04B 35/00 J
Fターム (12件)：
4G030AA07 ,  4G030AA34 ,  4G030AA39 ,  4G030BA16 ,  4G030GA04 ,  4G030GA22 ,  4G030GA25 ,  4G030GA27 ,  4K029BC09 ,  4K029DB05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09
引用特許：
審査官引用 (3件)

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