回転式基板乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：間宮武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-194033
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029866
出願日： 1993年07月09日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：

【要約】【目的】基板の種類を問わず基板表面から液体を速やかに除去して短時間で基板を乾燥させることができ、処理過程でのミストの飛散も少なく抑えられるようにする。【構成】チャック10の上面に水平姿勢で載置保持された基板10の上面中心部に向けて真上から気体を吹き付ける上側ブローノズル16を配設する。チャックの回転駆動機構14を制御し、基板を所定時間低速で回転させた後高速で回転させるようにする。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢で上面に載置して保持し鉛直軸回りに回転自在に支持するチャックと、このチャックを回転駆動する回転駆動手段とを備えてなる回転式基板乾燥装置において、前記チャック上に載置保持された基板の上面中心部に向けて真上から気体を吹き付ける上側ブロー手段を配設するとともに、前記チャックを所定時間低速で回転させた後高速で回転させるように前記回転駆動手段を制御する回転制御手段を設けたことを特徴とする回転式基板乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 361 , B08B 5/02

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭59-100540
特開平2-083927
特開平4-287922

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