表面電離型イオン化装置

発明者： ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：小林良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-319408
公開番号（公開出願番号）：特開2000-149866
出願日： 1998年11月10日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】超音速分子噴流のストレスによるエミッタの変形や損傷を防止する。【解決手段】短冊形状のエミッタ4をノズル2に向けて凸面となるように湾曲させて配設する。ガス噴出孔3から噴出された試料成分分子の超音速自由噴流はエミッタ4に接触し、その表面で発生したイオンはコレクタ5に捕集される。エミッタ4は分子噴流による外力に対して大きな応力を有しているので、変形や損傷の恐れが軽減される。

請求項（抜粋）：

真空室内に配設された固体表面に向けて試料分子を噴射して表面電離作用により該分子をイオン化する表面電離型イオン化装置において、前記固体表面は分子噴流に向けて凸面状に撓んだ薄板形状を有して成ることを特徴とする表面電離型イオン化装置。

IPC (4件)：

H01J 49/16 , G01N 27/62 , G01N 30/64 , H01J 27/26

FI (4件)：

H01J 49/16 , G01N 27/62 S , G01N 30/64 F , H01J 27/26

Fターム (4件)：

5C030DF01 , 5C030DG09 , 5C038GG13 , 5C038GH02

引用特許：

審査官引用 (1件)

イオン化検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-032949 出願人：株式会社島津製作所

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