特許
J-GLOBAL ID:200903087652125585
超純水製造用限外ろ過膜およびその予備洗浄方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-170093
公開番号(公開出願番号):特開2002-361052
出願日: 2001年06月05日
公開日(公表日): 2002年12月17日
要約:
【要約】【課題】 超純水製造装置を設置した後、短時間で高純度の超純水を得ることができる方法を提供することを目的とする。【解決手段】 超純水製造に使用される限外ろ過膜6を予備的に洗浄する方法であって、限外ろ過膜6を酸剤で洗浄する酸洗浄工程と、この工程で洗浄した限外ろ過膜6を超純水で洗浄する超純水洗浄工程とを実施する。
請求項(抜粋):
超純水製造に使用される限外ろ過膜を、超純水製造に先だって予備的に洗浄する方法であって、限外ろ過膜を酸剤で洗浄する酸洗浄工程と、この工程で洗浄した限外ろ過膜を超純水で洗浄する超純水洗浄工程とを有することを特徴とする超純水製造用限外ろ過膜の予備洗浄方法。
IPC (4件):
B01D 65/02
, B01D 61/14 500
, B01D 65/06
, C02F 1/44
FI (4件):
B01D 65/02
, B01D 61/14 500
, B01D 65/06
, C02F 1/44 J
Fターム (24件):
4D006GA06
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA71
, 4D006KC02
, 4D006KC13
, 4D006KC16
, 4D006KD11
, 4D006KD12
, 4D006KD13
, 4D006KD14
, 4D006KD15
, 4D006KD16
, 4D006KD22
, 4D006MA01
, 4D006MA02
, 4D006MA04
, 4D006MC11
, 4D006MC22
, 4D006MC33
, 4D006MC62
, 4D006NA61
, 4D006PB06
, 4D006PC02
引用特許:
前のページに戻る