特許
J-GLOBAL ID:200903087716188659
露光方法、露光装置及びマスク
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
田辺 恵基
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-139429
公開番号(公開出願番号):特開平9-298155
出願日: 1996年05月08日
公開日(公表日): 1997年11月18日
要約:
【要約】【課題】感光基板上に形成される第1層及び第2層に形成する露光パターンの継ぎ部において発生する不自然なコントラスト差を低減する。【解決手段】第1層LY11の継ぎ部JN1、JN2、JN3、JN4と第2層LY12の継ぎ部JN11、JN12、JN13、JN14とをずらして露光するようにしたことにより、各継ぎ部を境界として変化するコントラスト差を小さくすることができ、これにより継ぎ部におけるコントラスト差を一段と目立たなくすることができる。
請求項(抜粋):
第1層に露光する露光パターンを複数の単位パターンとしてマスクに形成し、前記単位パターンの継ぎ部を介して、感光基板上に前記第1層の露光パターンを形成するステツプと、第2層に露光する露光パターンを複数の単位パターンとしてマスクに形成し、前記単位パターンの継ぎ部を介して、前記第1層が形成された前記感光基板に前記第2層の露光パターンを形成するステツプと、を含む露光方法において、前記第2層の露光パターンを形成するときに、前記第1層の継ぎ部と前記第2層の継ぎ部とをずらして露光することを特徴とする露光方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G02F 1/136 500
, G03F 9/00
FI (4件):
H01L 21/30 514 A
, G02F 1/136 500
, G03F 9/00 Z
, H01L 21/30 515 F
引用特許:
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