特許
J-GLOBAL ID：200903087736962318

シリコーン樹脂それを含む組成物、ケイ酸ガラス系無機膜の形成方法

発明者：
伊東 敏雄

伊東 敏雄 について


出願人/特許権者：
沖電気工業株式会社

沖電気工業株式会社 について


代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-255077
公開番号（公開出願番号）：特開平8-120084
出願日： 1994年10月20日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：
【要約】【目的】 従来より温和な条件で熱的安定性が良いケイ酸ガラス系無機膜を形成する方法を提供する。しかも、体積収縮率の少ないケイ酸ガラス系無機膜を形成する方法を提供する。【構成】 置換基の一部がメトキシル基であって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)でシリコーン樹脂を構成する。このシリコーン樹脂と、酸発生剤とでシリコーン樹脂組成物を構成する。この組成物の皮膜を基板上に塗布し所定の露光をし、加熱し、現像する。
請求項（抜粋）：
置換基の全てが下記に示した置換基のいずれかであるポリ(シロキサン)、或は、置換基の一部が下記に示した置換基のいずれかであって残りが水酸基であるポリ(シロキサン)で構成したことを特徴とするシリコーン樹脂。メトキシル基、エトキシル基、n-プロポキシル基、2-プロポキシル基。
IPC (9件)：
C08G 77/14 NUG ,  C08K 5/36 ,  C08K 5/521 ,  C08K 5/55 ,  C08L 83/06 LRT ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/11 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312
引用特許：
審査官引用 (4件)
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