特許

J-GLOBAL ID：200903087765177522

クリーンカバー

発明者： 丸山 規夫
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-307831
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118157
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】装置全体を覆って高いクリーン度を維持できると共に、接眼レンズによるミクロ観察時に観察者の顔にダウンフロー気流が吹き付けられることを防止する。【解決手段】基板検査装置の少なくとも周囲四方を囲むカバー本体30a〜30dと、このカバー本体30a〜30dに設けられて顕微鏡21の接眼レンズ部22を当該カバー本体30a〜30dから突出させる接眼レンズ用開口部32と、この接眼レンズ用開口部32と顕微鏡21の鏡筒部21aとの間に設けられて接眼レンズ部22の周囲方向にダウンフロー気流Fを流出させるエアーシールド部材34とを具備した。

請求項（抜粋）：

少なくとも顕微鏡によるミクロ検査機能を備えた基板検査装置に装着し、上方からダウンフロー気流を流して内部のクリーン度を維持するクリーンカバーにおいて、前記基板検査装置の少なくとも周囲四方を囲むカバー本体と、このカバー本体に設けられて前記顕微鏡の接眼レンズ部を当該カバー本体から突出させる接眼レンズ用開口部と、この接眼レンズ用開口部と前記顕微鏡の鏡筒部との間に設けられて前記接眼レンズ部の周囲方向に前記ダウンフロー気流を流出させるエアーシールド部材と、を具備したことを特徴とするクリーンカバー。

IPC (5件)：

H01L 21/66 ,  B01L 1/00 ,  G01N 21/84 ,  G01N 21/956 ,  G02B 21/00

FI (5件)：

H01L 21/66 J ,  B01L 1/00 A ,  G01N 21/84 D ,  G01N 21/956 A ,  G02B 21/00

Fターム (16件)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB07 ,  2G051AC24 ,  2G051CA11 ,  2G051DA03 ,  2G051DA07 ,  2H052AF01 ,  2H052AF20 ,  4G057AA03 ,  4M106AA01 ,  4M106BA10 ,  4M106CA38 ,  4M106DB04 ,  4M106DB30 ,  4M106DG05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ウェハ検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-114767   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 特表昭62-501731