特許
J-GLOBAL ID:200903087785411769

位置合わせ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-153145
公開番号(公開出願番号):特開平9-007921
出願日: 1995年06月20日
公開日(公表日): 1997年01月10日
要約:
【要約】【目的】 ウエハ上のショット配列の非線形成分を検出して正確な位置合わせを行う。【構成】 各ショット領域のウエハマークをアライメントセンサで計測し、この計測結果及び設計データからEGA法により各ショット領域の基準点の線形座標値を求める(ステップ101〜109)。その線形座標値に基づき近似式を用いてショット配列の非線形成分を考慮した曲線配列座標を求め(ステップ110)、その曲線配列座標から補間法により各ショット領域の輪郭を表す輪郭曲線を求める(ステップ111)。その輪郭曲線で示される各ショット領域の歪みに対応してレチクルステージの走査方向、回転方向、及びウエハステージの高さを変化させながら露光を行う(ステップ114)。
請求項(抜粋):
マスクに形成されたパターンを基板上の各ショット領域に転写する露光装置で、前記基板の各ショット領域と前記マスクのパターンとの位置合わせを行うための位置合わせ方法において、前記基板上の全部のショット領域のうち所定の複数のショット領域に属する所定の基準点の配列座標をそれぞれ計測する第1工程と、該第1工程で計測された実測配列座標、及び前記基板上の所定の複数個のショット領域に属する前記所定の基準点の設計上の配列座標を統計処理して、前記所定の基準点の実測配列座標の線形成分を算出する第2工程と、前記実測配列座標から前記線形成分を差し引いて非線形成分を求める第3工程と、該第3工程で求められた非線形成分に基づき前記基板上の各ショット領域の歪みを求める第4工程と、を有することを特徴とする位置合わせ方法。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (5件):
H01L 21/30 516 A ,  G03B 27/32 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 518
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 位置合わせ方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-079414   出願人:株式会社ニコン
  • 特開平3-096219
審査官引用 (2件)
  • 位置合わせ方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-079414   出願人:株式会社ニコン
  • 特開平3-096219

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