特許
J-GLOBAL ID：200903087786502857
重ね合わせ精度測定用パターン
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小岩井 雅行 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-239969
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087213
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：
【要約】【課題】 多層間の重ね合わせ精度を1度に測定できる重ね合わせ精度測定用パターンを提供する。【解決手段】 重ね合わせ精度測定用パターンを、第1プロセスによって形成されるパターンであって、XX′方向に垂直な長辺を有する長方形パターン11a、11bからなる第1測定パターン11と、第2プロセスによって形成されるパターンであって、YY′方向に垂直な長辺を有する長方形パターン12a、12bからなる第2測定パターン12と、第3プロセスによって形成される、XX′あるいはYY′方向に垂直な辺を有する正方形状の第3測定パターン13とからなるものとする。
請求項（抜粋）：
重ね合わせ精度を測定するために基板上に形成される重ね合わせ精度測定用パターンにおいて、互いに異なるプロセスにおいて形成される基準測定パターンと複数の測定パターンであって、各測定パターンと基準測定パターンとの位置関係を測定することによりX軸方向あるいは前記X軸と直交するY軸方向の重ね合わせ精度を測定することが可能な基準測定パターンと複数の測定パターンを備えることを特徴とする重ね合わせ精度測定用パターン。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 502 M
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 506 C
, H01L 21/30 522 B
