特許
J-GLOBAL ID：200903087932476499

描画処理装置および描画処理方法

発明者：
大場 章男

大場 章男 について


出願人/特許権者：
株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント

株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント について


代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-318362
公開番号（公開出願番号）：特開2006-127412
出願日： 2004年11月01日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】 バンプマッピングの処理効率を上げるとともに、高い画質を維持することは困難であった。【解決手段】 法線ベクトルマッピング部108は、ポリゴンのLOD(Level of Detail)値に応じたミップマップレベルのテクスチャ118をポリゴン表面にマッピングし、ポリゴン表面に擬似法線ベクトルを生成する。法線ベクトル置換部110は、該当するミップマップレベルのVQテーブル121を参照して、ポリゴン表面上の疑似法線ベクトルを量子化された基準法線ベクトルに置換する。輝度値取得部112は、該当するミップマップレベルのCLUT122を参照し、ポリゴン表面上の基準法線ベクトルに対応する輝度値を取得し、ミップマップレベル間で輝度値を補間する。描画処理部104は、ポリゴン表面の各ピクセルのRGB値に輝度値取得部112により求められた輝度値を合成し、フレームバッファ126に書き込む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
法線ベクトルを要素としてもつ解像度の異なる複数の法線マップを解像度レベル別に格納した法線マップ記憶部と、 描画対象物体の表面の描画詳細度に応じた解像度レベルの前記法線マップを前記表面に写像することにより、前記表面上に疑似法線ベクトルを生成する法線ベクトル写像部と、 前記表面の法線方向を量子化した基準法線ベクトルの組であって、前記解像度レベル毎に異なるベクトル値の組み合わせとなるものを格納した解像度レベル別の複数の量子化テーブルと、 前記描画詳細度に応じた解像度レベルの前記量子化テーブルを参照して、前記表面上に生成された前記擬似法線ベクトルをその量子化テーブル内のいずれかの前記基準法線ベクトルに置換する法線ベクトル置換部とを含むことを特徴とする描画処理装置。
IPC (1件)：
G06T 15/50
FI (1件)：
G06T15/50 200
Fターム (2件)：
5B080AA15 ,  5B080GA23
引用特許：
出願人引用 (4件)
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