特許
J-GLOBAL ID:200903087963848009
照明装置及びそれを用いた投影露光装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-187481
公開番号(公開出願番号):特開平7-086123
出願日: 1993年06月30日
公開日(公表日): 1995年03月31日
要約:
【要約】【目的】 パターン形状の方向や線巾等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【構成】 光源からの光束で複数の微小レンズを2次元的に配列したオプティカルインテグレータを介して第1物体面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により第2物体面上に投影露光する際、該光源と該第1物体面との間の光路中の該投影光学系の瞳面と略共役な面に開口形状が可変でかつ光軸に対して回動可能の絞り部材を配置し、該絞り部材を利用して、該投影光学系の瞳面上に形成される光強度分布を調整したこと。
請求項(抜粋):
光源からの光束で複数の微小レンズを2次元的に配列したオプティカルインテグレータを介して被照射面を照明する際、該光源と被照射面との間の光路中に開口形状が可変でかつ光軸に対して回動可能の絞り部材を配置して、該被照射面の照明状態を調整していることを特徴とする照明装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (2件):
H01L 21/30 527
, H01L 21/30 512
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭63-023317
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投影露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-225220
出願人:キヤノン株式会社
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