特許

J-GLOBAL ID：200903088010590809

レーザ加工用ガラス

発明者： 小用 広隆 ,  常友 啓司
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 伊藤 俊哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-199895
公開番号（公開出願番号）：特開2004-107198
出願日： 2003年07月22日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】吸収したレーザ光エネルギーによるアブレーションあるいは蒸発を利用するレーザ加工でガラスを貫通するようなガラス内部にいたる加工が行え、かつ熱膨張係数が小さく、精密な加工が可能なレーザ加工用ガラスを提供する。【解決手段】本発明のレーザ加工用ガラスは、チタンを原子、コロイドまたはイオンの形態で含み、次のような範囲の組成を有する。すなわち、網目形成酸化物(SiO2、B2O3)の総量が60〜79モル%、中間酸化物(Al2O3、TiO2)の総量が5〜20モル%、修飾酸化物(Li2O、Na2O、K2O、Rb2O、Cs2O、MgO、CaO、SrO、BaO)の総量が5〜20モル%の範囲とする。ただし、TiO2は5〜20モル%の範囲で含有することが必須である。また、中間酸化物の総量は修飾酸化物の総量の90%以下とすることが望ましい。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

吸収したレーザ光エネルギーによるアブレーションまたは蒸発によりレーザ加工が可能なレーザ加工用ガラスにおいて、 前記ガラスの組成が次の条件を満たすことを特徴とするレーザ加工用ガラス。 60≦(SiO2+B2O3)≦79モル% 5≦(Al2O3+TiO2)≦20モル% 5≦(Li2O+Na2O+K2O+Rb2O+Cs2O+MgO+CaO+SrO+BaO)≦20モル% ただし、5≦TiO2≦20モル%とする。

IPC (8件)：

C03C3/091 ,  C03C3/062 ,  C03C3/064 ,  C03C3/078 ,  C03C3/083 ,  C03C3/085 ,  C03C3/087 ,  C03C3/089

FI (8件)：

C03C3/091 ,  C03C3/062 ,  C03C3/064 ,  C03C3/078 ,  C03C3/083 ,  C03C3/085 ,  C03C3/087 ,  C03C3/089

Fターム (97件)：

4G062AA01 ,  4G062AA04 ,  4G062BB01 ,  4G062CC10 ,  4G062DA01 ,  4G062DA02 ,  4G062DA03 ,  4G062DA04 ,  4G062DA05 ,  4G062DA06 ,  4G062DA07 ,  4G062DB01 ,  4G062DB02 ,  4G062DB03 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DC02 ,  4G062DC03 ,  4G062DC04 ,  4G062DC05 ,  4G062DC06 ,  4G062DC07 ,  4G062DD01 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA02 ,  4G062EA03 ,  4G062EA04 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EB02 ,  4G062EB03 ,  4G062EB04 ,  4G062EC01 ,  4G062EC02 ,  4G062EC03 ,  4G062EC04 ,  4G062ED01 ,  4G062ED02 ,  4G062ED03 ,  4G062ED04 ,  4G062EE01 ,  4G062EE02 ,  4G062EE03 ,  4G062EE04 ,  4G062EF01 ,  4G062EF02 ,  4G062EF03 ,  4G062EF04 ,  4G062EG01 ,  4G062EG02 ,  4G062EG03 ,  4G062EG04 ,  4G062FA01 ,  4G062FB03 ,  4G062FB04 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH02 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM01 ,  4G062MM02 ,  4G062NN29 ,  4G062NN40

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-003041
  
• 光学ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296406   出願人：株式会社オハラ
• 磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-357203   出願人：山村硝子株式会社
• レーザ加工用ガラス基材及びレーザ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-068415   出願人：日本板硝子株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Handbook of Glass Properties, 1986, p.87, p.584