特許
J-GLOBAL ID：200903088011140513
支持体付きX線マスク材料および支持体付きX線マスク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 静男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-016824
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217863
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 X線マスク基板上に設けられたX線透過膜の平坦度の悪化を防ぎ、高精度のギャップ精度が得られる支持体付きX線マスク材料および支持体付きX線マスクを提供する。【構成】 本発明の支持体付きX線マスク材料は、基板の第1の主表面に、少なくともX線透過膜が形成されており、前記基板の第2の主表面に、抜き穴を有する支持体が陽極接合された支持体付きX線マスク材料であって、前記基板が前記支持体の、抜き穴を画定する内周面部分またはその近傍と接触しないように、前記基板の第2の主表面に凹部を形成したことを特徴とする。本発明の支持体付きX線マスクは、基板の第1の主表面に、X線透過膜とX線吸収膜パターンが順次形成されており、前記基板の第2の主表面に、抜き穴を有する支持体が陽極接合された支持体付きX線マスクであって、前記基板が前記支持体の、抜き穴を画定する内周面部分またはその近傍と接触しないように、前記基板の第2の主表面に凹部を形成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板の第1の主表面に、少なくともX線透過膜が形成されており、前記基板の第2の主表面に、抜き穴を有する支持体が陽極接合されている支持体付きX線マスク材料であって、前記基板が前記支持体の、抜き穴を画定する内周面部分またはその近傍と接触しないように、前記基板の第2の主表面に凹部を形成したことを特徴とする支持体付きX線マスク材料。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (5件)
-
特開昭60-186840
-
特開平2-119118
-
特開平4-280840
全件表示
前のページに戻る
