特許

J-GLOBAL ID：200903088087379698

超研摩方法およびそのためのスラリ

発明者： ブレント・ラン・デン・ハルトグ ,  デニス・レオナード・フォックス ,  ジェームズ・アロイシウス・ハガン ,  ジョン・チェン・シェン ,  カンニマンガラム・ヴィー・ヴィスワナタン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-324753
公開番号（公開出願番号）：特開平7-240025
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、原子レベルの滑らかさまでディスク基板表面を研摩する超研摩方法を提供する。【構成】 本発明による超研摩方法は化学的仕上げ処理と機械的仕上げ処理を組み合わせて使用するものである。所定の表面粗さまで機械加工(すなわち、荒削り)したディスク基板の表面は、腐食剤の侵食を受けやすい。本発明によるスラリ中のこの腐食剤によって、基板材は軟化される。その後、軟化した基板材は、スラリに含まれる軟質コロイド粒子によって、機械的作用により「拭き取られ」除去される。【効果】 得られたディスク基板表面は従来の硬質粒子による研摩処理を施したディスク表面より1オーダ低い平均表面粗さを達成することができた。

請求項（抜粋）：

基板材と磁性体とを含む、少なくとも1つのディスクを有する、磁気ディスク装置を製造する方法において、化学的腐食剤を使用して前記基板材を侵食し、前記化学的腐食剤が前記基板材と反応して前記基板材の一部分を軟化させるステップと、コロイド粒子を使用して、前記基板材の前記一部分を除去するステップとを含む方法。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  C23F 1/16 ,  G11B 5/82 ,  H01L 21/304 321

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭64-067714
  
• 特開昭62-025187
  
• 特開平2-084485
  
• 特開平4-095221
  
• 磁気ディスクおよび磁気ディスク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-107968   出願人：株式会社日立製作所