特許
J-GLOBAL ID:200903088219433603

ホイスラー合金薄膜の製造方法、磁性膜を備えた積層膜、それを利用した磁気抵抗効果素子および固体磁気記録素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-054202
公開番号(公開出願番号):特開平8-250366
出願日: 1995年03月14日
公開日(公表日): 1996年09月27日
要約:
【要約】【目的】 ホイスラー合金薄膜を低温でも有効に形成することができるホイスラー合金薄膜の製造方法、およびこのようなホイスラー合金薄膜で構成された磁性膜を備えた積層膜、ならびにこのような積層膜を利用した磁気抵抗効果素子および固体磁気記録素子を提供する。【構成】 体心立方格子構造を有する金属膜を下地として形成し、その上にホイスラー合金薄膜を形成する。
請求項(抜粋):
体心立方格子構造を有する金属からなる下地の上にホイスラー合金薄膜を形成することを特徴とするホイスラー合金薄膜の製造方法。
IPC (6件):
H01F 41/18 ,  C23C 14/14 ,  G11B 5/66 ,  H01F 10/26 ,  H01L 43/08 ,  H01L 43/10
FI (6件):
H01F 41/18 ,  C23C 14/14 F ,  G11B 5/66 ,  H01F 10/26 ,  H01L 43/08 Z ,  H01L 43/10
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平1-296446
  • 磁気抵抗効果素子薄膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-200748   出願人:日本電気株式会社
  • 薄膜磁気ヘッド
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-300681   出願人:株式会社東芝
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