特許
J-GLOBAL ID：200903088224883374

透明導電膜の製造方法

発明者：
都藤 靖泰

都藤 靖泰 について

, 
東谷 公

東谷 公 について

, 
神田 陽一

神田 陽一 について


出願人/特許権者：
国立大学法人京都大学

国立大学法人京都大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-196376
公開番号（公開出願番号）：特開2008-027636
出願日： 2006年07月19日
公開日（公表日）： 2008年02月07日
要約：
【課題】 本発明は、優れた導電性、透明性を持つ透明導電フィルムを低温条件で提供することのできる製造方法を提案することを目的とする。【解決手段】 透明基板(A)の表面上に高分子微粒子(B)を配列し、加熱または圧力により高分子微粒子(B)を変形させ高分子微粒子(B)と透明基板(A)との間にできる空隙からなる鋳型(C)を形成し、該鋳型(C)内の透明基板(A)上に無電解めっき処理により金属(D0)層を形成させることを特徴とする、透明基板(A)の表面に網目状に形成された導電層(D)からなる導電パターン(E)を有する透明導電膜の製造方法である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板(A)の表面上に高分子微粒子(B)を配列し、加熱または圧力により高分子微粒子(B)を変形させ高分子微粒子(B)と透明基板(A)との間にできる空隙からなる鋳型(C)を形成し、該鋳型(C)内の透明基板(A)上に無電解めっき処理により金属(D0)層を形成させることを特徴とする、透明基板(A)の表面に網目状に形成された導電層(D)からなる導電パターン(E)を有する透明導電膜の製造方法。
IPC (2件)：
H01B 13/00 ,  C23C 18/31
FI (3件)：
H01B13/00 503B ,  C23C18/31 Z ,  H01B13/00 503D
Fターム (17件)：
4K022AA31 ,  4K022AA37 ,  4K022AA41 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA07 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA35 ,  4K022CA08 ,  4K022CA25 ,  4K022DA01 ,  4K022DB30 ,  5G323BA01 ,  5G323BB06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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