特許

J-GLOBAL ID：200903088225606226

表面処理方法及び光学部品

発明者： 太田 達男
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
代理人 (2件)： 田村 敬二郎 ,  小林 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-194166
公開番号（公開出願番号）：特開2004-035941
出願日： 2002年07月03日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：

【課題】処理される面形状に関わらず、より均一な成膜を行える表面処理方法及びそれにより成膜される光学部品を提供する。【解決手段】高周波プラズマCVD法により光学部品の基材の曲面上にコーティング膜を形成するので、基材の成膜面が曲面であっても、より均一厚さ及び特性の膜を形成でき、しかも従来技術のごとく、基材を回転する必要もなく、或いは基材を真空雰囲気におく必要もないため、設備コストを低く抑えることができるから製造コストが低減されると共に処理効率が向上する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

曲面を有する基材に対してコーティング膜を形成する表面処理方法であって、高周波プラズマCVD法により前記曲面上にコーティング膜を形成することを特徴とする表面処理方法。

IPC (6件)：

C23C16/505 ,  C23C16/18 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11 ,  G02B5/08 ,  G02B5/28

FI (7件)：

C23C16/505 ,  C23C16/18 ,  G02B5/08 C ,  G02B5/08 D ,  G02B5/28 ,  G02B1/10 A ,  G02B1/10 Z

Fターム (38件)：

2H042DA04 ,  2H042DA05 ,  2H042DA07 ,  2H042DA08 ,  2H042DA11 ,  2H042DA12 ,  2H042DB01 ,  2H042DC02 ,  2H042DD00 ,  2H042DE04 ,  2H048GA07 ,  2H048GA09 ,  2H048GA36 ,  2H048GA51 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2K009AA05 ,  2K009AA15 ,  2K009BB02 ,  2K009BB13 ,  2K009BB14 ,  2K009BB24 ,  2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD04 ,  2K009EE03 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030CA00 ,  4K030CA01 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水素化アモルファス薄膜形成方法、それに用いる装置、該薄膜を形成した気体動圧軸受、スピンドルモータ及び回転体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-244399   出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社