特許
J-GLOBAL ID:200903088238936942
毛髪化粧料用基剤及びそれを用いた毛髪化粧料
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
安藤 惇逸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-280430
公開番号(公開出願番号):特開2003-081745
出願日: 2001年09月14日
公開日(公表日): 2003年03月19日
要約:
【要約】【課題】 毛髪化粧料に処方したときに高セット力と自然な風合いの両立を図ることができる毛髪化粧料用基剤を提供する。【解決手段】 (a)分子内にカルボキシル基を一つ以上有するエチレン性不飽和単量体10〜40重量%及び(b)その他の重合性エチレン性不飽和単量体60〜90重量%からなるエチレン性不飽和単量体成分を、該エチレン性不飽和単量体成分(A)全量に対して1〜120重量%の(B)分子量1000以上のポリオキシプロピレングリセリルエーテルと、(C)親水性溶媒又は水及び親水性溶媒からなる溶媒との存在下に、(D)ラジカル重合開始剤を用いて溶液重合により共重合させて得られる共重合体から構成される。
請求項(抜粋):
(A)下記のエチレン性不飽和単量体(a)及び(b)、即ち(a)分子内にカルボキシル基を一つ以上有するエチレン性不飽和単量体10〜40重量%及び(b)その他の重合性エチレン性不飽和単量体60〜90重量%からなるエチレン性不飽和単量体成分を、該エチレン性不飽和単量体成分(A)全量に対して1〜120重量%の(B)分子量1000以上のポリオキシプロピレングリセリルエーテルと、(C)親水性溶媒又は水及び親水性溶媒からなる溶媒との存在下に、(D)ラジカル重合開始剤を用いて溶液重合により共重合させて得られる共重合体からなる毛髪化粧料用基剤。
IPC (4件):
A61K 7/00
, A61K 7/06
, A61K 7/11
, A61K 7/13
FI (4件):
A61K 7/00 J
, A61K 7/06
, A61K 7/11
, A61K 7/13
Fターム (22件):
4C083AB132
, 4C083AC012
, 4C083AC102
, 4C083AD091
, 4C083AD092
, 4C083AD111
, 4C083AD112
, 4C083BB21
, 4C083BB43
, 4C083BB46
, 4C083BB47
, 4C083BB49
, 4C083CC31
, 4C083CC32
, 4C083CC36
, 4C083DD08
, 4C083DD23
, 4C083DD31
, 4C083EE06
, 4C083EE07
, 4C083EE25
, 4C083FF01
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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