特許
J-GLOBAL ID：200903088290215749

触媒型電気化学反応器

発明者：
淡野 正信

淡野 正信 について

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藤代 芳伸

藤代 芳伸 について

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濱本 孝一

濱本 孝一 について

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片山 真吾

片山 真吾 について

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平松 拓也

平松 拓也 について

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塩野 修

塩野 修 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について

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日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 須藤 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-190149
公開番号（公開出願番号）：特開2006-007142
出願日： 2004年06月28日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 燃焼排ガス中に過剰の酸素が存在する場合に、少ない消費電力で高効率に窒素酸化物を浄化することが可能な化学反応システムを提供する。【解決手段】 遷移金属の微細粒子、酸素欠損濃集部を有するイオン伝導体、及び電子伝導体、を構成要素として、(1)反応場となる遷移金属の微細粒子からなる還元相、(2)被処理物質を反応場に導入するための空間、(3)反応場となるイオン伝導体結晶構造の中に形成された酸素欠損濃集部、(4)イオン伝導体の酸素欠損濃集部に吸着する酸素分子をイオン化するために必要な電子を供給する電子伝導相、及び(5)イオン伝導体の酸素欠損でイオン化された酸素分子を反応系外に搬出するための経路となるイオン伝導相、を基本単位とする化学反応部を形成したことを特徴とする、化学反応システム。【効果】 被処理物質の浄化効率を向上させ、低温浄化を実現することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
被処理物質の化学反応もしくはエネルギー変換反応を行うための化学反応システムであって、(A)遷移金属の微細粒子、酸素欠損濃集部を有するイオン伝導体、及び電子伝導体、を構成要素として、(1)反応場となる遷移金属の微細粒子からなる還元相、(2)被処理物質を反応場に導入するための空間、(3)反応場となるイオン伝導体結晶構造の中に形成された酸素欠損濃集部、(4)イオン伝導体の酸素欠損濃集部に吸着する酸素分子をイオン化するために必要な電子を供給する電子伝導相、及び(5)イオン伝導体の酸素欠損でイオン化された酸素分子を反応系外に搬出するための経路となるイオン伝導相、を基本単位とする化学反応部を形成したこと、(B)それにより、共存する酸素分子に対して被処理物質を酸素分子と別の吸着分解反応サイトにおいて選択的に吸着分解させる機能を付加したこと、を特徴とする、化学反応システム。
IPC (6件)：
B01J 19/08 ,  B01J 35/02 ,  F01N 3/08 ,  B01D 53/94 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74
FI (5件)：
B01J19/08 A ,  B01J35/02 A ,  F01N3/08 Z ,  B01D53/36 101A ,  B01D53/34 129C
Fターム (87件)：
3G091AA12 ,  3G091AA17 ,  3G091AA18 ,  3G091AB00 ,  3G091AB14 ,  3G091BA14 ,  3G091BA39 ,  3G091FB10 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA08 ,  4D002CA07 ,  4D002DA21 ,  4D002GA01 ,  4D002GB03 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048AB07 ,  4D048BA08X ,  4D048BA38X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB02 ,  4D048DA03 ,  4D048DA06 ,  4D048EA02 ,  4D048EA04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA05B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC29A ,  4G069BC68B ,  4G069CA08 ,  4G069CA10 ,  4G069CA13 ,  4G069CC31 ,  4G069DA05 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EA18 ,  4G069EC28 ,  4G069FA01 ,  4G069FA04 ,  4G069FB07 ,  4G069FB30 ,  4G069FB64 ,  4G075AA03 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BB04 ,  4G075BD14 ,  4G075CA20 ,  4G075CA54 ,  4G075EC21 ,  4G075FA01 ,  4G075FB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FC11 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA05B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC29A ,  4G169BC68B ,  4G169CA08 ,  4G169CA10 ,  4G169CA13 ,  4G169CC31 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02X ,  4G169EA02Y ,  4G169EA18 ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FA04 ,  4G169FB07 ,  4G169FB30 ,  4G169FB64
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 米国特許第4902487号明細書
  • 特公平7-106290号公報
  • 化学反応器
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-225034   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, ファインセラミックス技術研究組合
審査官引用 (2件)

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