特許
J-GLOBAL ID：200903088359543964
超臨界流体を利用して微粒子を製造する方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小谷 悦司
, 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-314917
公開番号（公開出願番号）：特開2004-148174
出願日： 2002年10月29日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】液滴・粒子の微細化を図ると共に、十分な処理量を確保しつつ、流路閉塞等の問題を解消する技術を提供すること。【解決手段】被微粒化物が溶解している液体を噴射手段を通して噴射して液滴を形成し、超臨界流体または亜臨界流体の貧溶媒化作用を利用して該液滴から被微粒化物を微粒子状で析出させる微粒子製造方法において、前記液体を噴射口先端部近傍に障害物が設けられている噴射手段に通して該障害物と衝突させるプロセスを包含することに要旨を有する微粒子の製造方法。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
被微粒化物が溶解している液体を噴射手段を通して噴射して液滴を形成し、超臨界流体または亜臨界流体の貧溶媒化作用を利用して該液滴から被微粒化物を微粒子状で析出させる微粒子製造方法において、前記液体を噴射口先端部近傍に障害物が設けられている噴射手段に通して該障害物と衝突させるプロセスを包含することを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
4G075AA02
, 4G075AA13
, 4G075AA27
, 4G075BB10
, 4G075BC10
, 4G075CA51
, 4G075CA65
, 4G075CA66
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EC01
, 4G075EE12
, 4G075FA08
