特許
J-GLOBAL ID:200903088454768060

静電誘導ショットキー短絡構造を有する静電誘導型半導体素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 玉蟲 久五郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-115293
公開番号(公開出願番号):特開平6-302811
出願日: 1993年04月19日
公開日(公表日): 1994年10月28日
要約:
【要約】【目的】 本発明の目的は、静電誘導型素子のターンオフスイッチング性能において、蓄積時間、下降時間の短縮並びにゲート電極よりの引き出し電荷量を従来に比べ大幅に低減化し、ターンオフ性能の優れ、使い易い、静電誘導効果により制御可能なショットキー障壁をカソード電極近傍に具えた静電誘導ショットキー短絡構造を有する静電誘導型半導体素子を提供することにある。【構成】 ターンオフ時のゲート引き抜き電荷量の一部分をカソードもしくはソース電極からも容易に引き抜けるように、主電極領域を相対的に不純物密度の高い領域と相対的に不純物密度の低い領域から形成し、かつ相対的に不純物密度の高い領域に挟まれた相対的に不純物密度の低い領域に主電極とショットキー接触した静電誘導ショットキー短絡領域を設定した構成を有する。
請求項(抜粋):
高抵抗層領域の第1の主表面に形成された第1の主電極領域と、前記高抵抗層領域の第1もしくは第2の主表面に形成された第2の主電極領域と、前記第1の主電極領域の近傍に形成された制御領域とを具備し、前記制御領域は前記高抵抗層領域内にチャネル領域を形成するとともに第1の主電極領域と第2の主電極領域間を導通する主電流を該チャネル領域に形成された電位障壁高さを制御することによって制御する静電誘導型半導体素子において、第1の主電極領域は相対的に不純物密度の高い領域と相対的に不純物密度の低い領域とが互いに分布された構造を具え、かつ第1の主電極領域に接触する主電極は上記相対的に不純物密度の高い領域とはオーミック接合を形成して接触し、かつ相対的に不純物密度の低い領域とはショットキー接合を形成して接触し、前記制御領域と前記主電極間の相対的に不純物密度の低い領域は実質的に空乏化されて、前記ショットキー接合の電位障壁高さは前記制御領域の電位によって静電誘導効果によって制御可能であることを特徴とする静電誘導ショットキー短絡構造を有する静電誘導型半導体素子。
IPC (2件):
H01L 29/74 ,  H01L 29/804
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 静電誘導半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-231007   出願人:日産自動車株式会社

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