特許

J-GLOBAL ID：200903088468545810

真空スパッタリング装置用ア-ク防止装置

発明者： ヨーハン・シュトュルマー ,  ミヒャエル・リューベフーゼン ,  ゲルノート・トルン
出願人/特許権者： レイボルト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-251961
公開番号（公開出願番号）：特開平6-220629
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1994年08月09日
要約：

【要約】【目的】本発明は、真空スパッタリング装置におけるア-ク防止装置に関するものである。【構成】スパッタリング装置1のカソ-ド5を、所定の時間間隔において正電位にするパルス発生装置を具備することにより、タ-ゲット7上に層の退位が発生する。この退位はア-クを導きうる高電圧の蓄積を防止することができる。

請求項（抜粋）：

真空スパッタリング装置におけるカソ-ドに負電位を供給する直流電源と、所定の時間間隔においてカソ-ドの電位を所定正電位分上げる構成を具備し、前記構成がカソ-ドに接続されたパルス電源であることを特徴とする真空スパッタリング装置用ア-ク防止装置。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 炭素フィルムをスパタリングする方法及びその製造物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-077740   出願人：コマッグ・インコーポレイテッド