特許

J-GLOBAL ID：200903088481708427

半導体露光装置及びその照明方法

発明者： 矢野 潤一
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-111047
公開番号（公開出願番号）：特開平8-286382
出願日： 1995年04月13日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】 空間的並びに時間的コヒーレンスの高い光源を用いた際に被照射面に生じる干渉パターン及びスペックルパターンを有効に抑制し、かつ被照射面の均一照明を可能とした半導体製造装置用の露光装置とその照明方法を提供する。【構成】 レーザ光源1からのレーザビーム光に基づいてフライアイレンズ系4で複数の2次光源を形成し、この光で被照射面6を照明するための光学系5とを備え、フライアイレンズ系4をレーザビーム光の光軸と垂直な面内において少なくとも一方向に平行移動する手段を備える。また、光軸の回りに回転させる手段も備えることができる。フライアイレンズ系4を移動することで1次元的または2次元的に2次光源を分布形成することが可能となり、実質的な2次光源をより細かく2次元的に分布形成させることができ、被照射面に生じる干渉パターン及びスペックルパターンによる照明均一性の悪影響の軽減が図られる。

請求項（抜粋）：

レーザビーム光を射出するレーザ光源と、前記レーザビーム光に基づいて複数の2次光源を形成するフライアイレンズと、このフライアイレンズからの光で被照射面を照明するための光学系とを備える半導体露光装置において、前記フライアイレンズをレーザビーム光の光軸と垂直な方向に平行移動する手段を備える半導体露光装置。

IPC (4件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/20 505 ,  G02B 26/10 105 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/20 505 ,  G02B 26/10 105 ,  H01L 21/30 515 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-185298   出願人：三菱電機株式会社