特許

J-GLOBAL ID：200903088494321335

ステージ装置および露光装置

発明者： 柴田 雄吾
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-322424
公開番号（公開出願番号）：特開2008-199876
出願日： 2007年12月13日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：

【課題】 磁石の反発力を利用してステージを加減速するステージ装置において、反発力を発生させる際に周囲に漏れる磁束による影響を抑制することを目的とする。【解決手段】 ステージに設けられた第1磁石と、前記ステージの移動ストロークの端部に設けられ、前記端部において前記第1磁石と対向するように設けられる第2磁石とを有し、前記第1磁石と前記第2磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与する力付与手段と、 前記ステージを前記移動ストローク内で駆動する駆動手段とを備えたステージ装置において、 前記第2磁石の磁束を補強するための磁束補強手段と、前記第2磁石からの磁束を遮蔽するための磁気シールドとを備える。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

ステージに設けられた第1磁石と、前記ステージの移動ストロークの端部に設けられ、前記端部において前記第1磁石と対向するように設けられる第2磁石とを有し、前記第1磁石と前記第2磁石との間に働く反発力を利用して前記ステージに力を付与する力付与手段と、 前記ステージを前記移動ストローク内で駆動する駆動手段とを備えたステージ装置において、 前記第2磁石の磁束を補強するための磁束補強手段と、 前記第2磁石からの磁束を遮蔽するための磁気シールドとを備えることを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

H02K 41/03 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H02K 33/00

FI (4件)：

H02K41/03 A ,  H01L21/30 503A ,  G03F7/20 521 ,  H02K33/00 A

Fターム (22件)：

5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046CC17 ,  5H633BB08 ,  5H633GG02 ,  5H633HH03 ,  5H633HH05 ,  5H633HH16 ,  5H633HH27 ,  5H633HH28 ,  5H633HH29 ,  5H633JA10 ,  5H641BB06 ,  5H641GG02 ,  5H641HH03 ,  5H641HH17 ,  5H641HH18 ,  5H641HH20 ,  5H641JA07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 移動ステージ装置、移動ステージの移動方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-235144   出願人：キヤノン株式会社