特許
J-GLOBAL ID：200903088514999538
荷電粒子ビーム照射装置および照射方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
竹中 岑生
, 大岩 増雄
, 児玉 俊英
, 村上 啓吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-120839
公開番号（公開出願番号）：特開2004-321502
出願日： 2003年04月25日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：
【課題】比較的大きな照射野を荷電粒子ビームにより適切かつ容易に照射できる荷電粒子ビーム照射装置および照射方法を提供する。【解決手段】加速器から出射され複数のリーフを有する多葉コリメータで制御される荷電粒子ビームを治療室の治療台7上の患者などの被照射体に照射する照射装置において、前記被照射体の移動に応じ多葉コリメータ4の各リーフ8を照射野の形状に合わせて駆動制御し所定の開口領域を有する開口部を形成することにより、前記被照射体の所定面積を照射野の形状に合わせて照射する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数のリーフを有する多葉コリメータで制御される荷電粒子ビームを移動手段により移動される被照射体に照射する照射装置において、前記被照射体の移動に応じ前記多葉コリメータの各リーフを照射野の形状に合わせて駆動制御し所定の開口領域を有する開口部を形成することにより、前記被照射体の所定面積を照射野の形状に合わせて照射することを特徴とする荷電粒子照射装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4C082AA01
, 4C082AC05
, 4C082AE01
, 4C082AG12
, 4C082AG22
, 4C082AG24
