特許
J-GLOBAL ID：200903088528276792
ステンシルマスク製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266237
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098593
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：
【要約】【課題】 E-ビームリソグラフィー工程に使用可能なステンシルマスクを製造するステンシルマスク製造方法において、ステンシルマスク基板全体に亘って形成されたシリコン窒化膜を多数個の小領域に分け、パターニングされるシリコン窒化膜の面積を縮小することによって窒化膜が受けるストレスを緩和させるようにしたステンシルマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 ステンシル(stencil)マスク基板全体に亘ってシリコン窒化膜を形成した後、シリコン窒化膜を二つ以上の部分に分割して所定のパターンを形成する工程を含んでなるステンシルマスク製造方法である。
請求項（抜粋）：
マスク基板を提供する段階と、前記マスク基板全体に亘りシリコン窒化膜を形成する段階と、前記シリコン窒化膜をパターニングし、少なくとも二つ以上の部分に分割されたシリコン窒化膜パターンを形成する段階と、前記シリコン窒化膜パターンをマスクとして前記マスク基板をパターニングする段階と、を含んでなることを特徴とするステンシルマスク製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/16 B
, H01L 21/30 531 M
, H01L 21/30 541 S
