マルチビーム走査装置の光源装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081117
公開番号（公開出願番号）：特開平11-281904
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】紫外線照射による接着が行われる接着剤を用いた場合に紫外線照射時あるいは環境変動時でのコリメート性や光軸値のずれ量およびバラツキを防止でき、安定した位置調整を行える構成を備えたマルチビーム走査装置の光源装置を提供する。【解決手段】半導体レーザ101、102とコリメートレンズ103、104とを一体的に調整保持するホルダ部材60’とを備え、半導体レーザはホルダ部材に圧入されて設けられ、コリメートレンズはコバ部の一部がホルダー部材に対して位置調整されながら接着固定される構成を備えたマルチビーム走査装置の光源装置において、ホルダー部材とコリメートレンズとを接着している接着層A1’、A2’の厚みが各々のコリメートレンズ同士で同一となるように、半導体レーザの圧入部63’、64’の位置を相対的にずらして形成する。

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザおよび各半導体レーザに対応したコリメートレンズと、これら半導体レーザとコリメートレンズとを一体的に調整保持するホルダ部材とを備え、上記半導体レーザは上記ホルダ部材に圧入されて設けられ、上記コリメートレンズはコバ部の一部が上記ホルダー部材に対して位置調整されながら接着固定される構成を備えたマルチビーム走査装置の光源装置において、上記ホルダー部材と上記コリメートレンズとを接着している接着層の厚みが各々のコリメートレンズ同士で同一となるように、上記半導体レーザの圧入部の位置を相対的にずらして形成することを特徴とするマルチビーム走査装置の光源装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 , H04N 1/04 101 , H04N 1/113

FI (4件)：

G02B 26/10 B , G02B 26/10 F , H04N 1/04 101 , H04N 1/04 104 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

2ビーム走査用光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-153808 出願人：株式会社リコー
光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-047321 出願人：株式会社リコー
マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-194526 出願人：株式会社リコー

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