特許
J-GLOBAL ID:200903088582804753

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-135894
公開番号(公開出願番号):特開平8-305034
出願日: 1995年05月09日
公開日(公表日): 1996年11月22日
要約:
【要約】【目的】 気圧変動があってもレチクル面上のパターンを投影光学系によりウエハ面上に高い光学性能を有して投影することのできる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【構成】 第1物体のパターンを投影光学系により第2物体上に投影する装置において、前記投影光学系に関連する気圧の変化を検出する気圧検出手段と、前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段と、前記気圧検出手段の出力を受け、前記気圧の変化による前記投影光学系の確保の相対屈折率の変化を補正するように前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段とを有すること。
請求項(抜粋):
第1物体のパターンを投影光学系により第2物体上に投影する装置において、前記投影光学系に関連する気圧の変化を検出する気圧検出手段と、前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段と、前記気圧検出手段の出力を受け、前記気圧の変化による前記投影光学系の硝材の相対屈折率の変化を補正するように前記第1物体のパターンの投影に用いる光の波長を変える波長変更手段とを有する投影露光装置。
IPC (3件):
G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027
FI (6件):
G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 516 Z
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平4-030411
  • 特開平4-030412
  • 露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-333872   出願人:松下電器産業株式会社
審査官引用 (5件)
  • 特開平4-030411
  • 特開平4-030412
  • 露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-333872   出願人:松下電器産業株式会社
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